纳米级3D打印技术-双光子光刻进一步优化，X射线分析体内3D打印植入物更容易

《3D打印世界》讯/美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）的研究人员日前找到了一种改进纳米级3D打印技术双光子光刻（TPL）的方法。这项研究可以帮助医生采用X射线进行CT扫描，分析人体内的3D打印植入物。

与大多数激光3D打印技术不同，双光子光刻技术使用光致抗蚀剂材料，同时吸收两个光子，提高打印分辨率。研究发现，将3D打印过程中使用的抗蚀剂材料直接应用在镜头上，并透过这种材料将3D打印机的激光对焦，可以打印出尺寸小于150纳米但高度达几毫米的三维微结构。此外，他们还可以将3D打印过程中使用的光敏聚合物抗蚀剂的衰减提高10倍以上，增加（或减少）抗蚀剂吸收X射线的量。

这项研究还带来了另一项重大改进。研究人员可以采用3D打印技术制作出吸收更多X射线的3D打印人体植入物，帮助医生使用外部X射线CT扫描仪或其他成像设备更容易地检查3D打印人体植入物。

此外，优化的TPL过程还可以有许多用途，如可用于制造国家点火设施的内部结构、LLNL的大型激光惯性约束聚变（ICF）研究设备、光学和机械超材料、3D打印电化学电池。

但是，现在的重点是提高该技术的打印速度，实现更小、更高的功能。研究人员相信这项3D打印工艺终有一天会被用来生产关键部件。

编译自：3ders.org

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